微波等离子体化学气相沉积设备
- 产品编号 : AT61015
- 类别： 半导体镀膜沉积设备
- 产品描述：
微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是一台高配置、多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合加工设备。它适合应用于单晶和多晶金刚石膜片的化学气相沉积（CVD）；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等高新科技领域。可供钻石生产的基台为3inch，其自带的360°自动旋转功能可以更均衡地培育钻石。
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项目名称 |
型号 |
配置 |
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全自动控制系统 |
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气压、温度、功率自动匹配 |
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微波电源 |
10KW |
微波控制电源 微波发生器 |
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微波传输系统及腔体 |
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波导、圆形腔体 |
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模式变换器 |
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BJ26 |
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基台 |
直径8CM |
水冷却、 电动升降、 电动连续旋转 360度 |
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5路气体流量控制系统 |
选5路 |
500SCCM H2 60sccm N2 60sccm CH4 60sccm O2 60sccm Ar |
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真空及气体管路 |
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混气罐、波纹管等 |
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直连机械泵 |
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6升/秒 |
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薄膜计 |
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量程10Pa—99kPa |
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真空计 |
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10-1---10-9 Pa |
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基片红外测温 |
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高精度红外测温仪 测温范围150-1200C |
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屏幕PLC |
14 寸液晶屏 |
PLC |
