电子束蒸发沉积系统
- 产品编号 : AT60041
- 类别： 半导体镀膜沉积设备
- 产品描述：
电子束蒸发沉积系统
电阻/辐射加热(可通惰性气体及氧气)
样品台集成电阻加热、液氮冷却
快开门和防污板设计，方便维护
镀膜过程全自动控制
样品台可旋转、升降、平移、倾斜
进样室/手套箱，可与PLD/ 磁控真空 互联
可集成热蒸发/离子束辅助沉积
超高真空兼容选项
设备参数
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真空腔体 |
450mm×450mm×5 00mm 500mm×500mm×700mm 600m m×600mm×1000mm |
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腔体材质 |
304/316不锈钢，电解抛光 |
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真空系统 |
分子泵/低温泵+机械泵 |
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极限真空 |
9×10⁻⁶Pa/9×10⁻⁷Pa |
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E型电子枪 |
电压6KV-10KV,带有XY偏转扫描 |
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坩埚 |
4穴、6穴、8穴、环形可选，12cc、22cc、40cc等 |
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功率 |
6KW～10KW、其它功率(可根据用户要求选配) |
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基片尺寸 |
2-4英寸 2-6英寸 2-8英寸 |
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加热温度 |
900℃ |
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冷台 |
水冷/液氮冷却 最低温度-150℃ 低温至室温连续可控 |
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转动 |
旋转/倾斜 |
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膜厚监控 |
膜厚测量精度：0.03A,速率测量精度：0.1A/S进口和国产根据客户需求选配 |
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电控系统 |
PLC |
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报警及保护 |
完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护 |
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工艺气体 |
可选 |
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冷却系统 |
水流、水压、水温检测 |
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高通量功能 |
可选 |
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选配 |
进样室/离子束辅助沉积/手套箱/热蒸发/真空互联 |
